| 年度 |
計畫名稱 |
委託單位 |
| 107 |
針對實體設計與製造可行性設計之先進深度學習技術
(1/3) |
科技部 |
| 106 |
可製造性感知的下世代前瞻佈局最佳化技術(1/3) |
科技部 |
| 106 |
針對先進微影技術之設計最佳化(3/3) |
科技部 |
| 105 |
針對先進微影技術之設計最佳化(2/3) |
科技部 |
| 104 |
針對先進微影技術之設計最佳化(1/3) |
科技部 |
| 103 |
考慮次10奈米微影製程可擴展性和變異性之可製造性導向後
佈局設計 |
國科會 |
| 102 |
針對自動對準雙圖案微影技術之後佈局最佳化
(NSC102-2218-E-011-023) |
國科會 |
|